Obiekt

Tytuł: Pressure influence of some residual gases on the sputtering rate of Si

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2020-12-10

Data dodania obiektu:

2020-12-10

Liczba wyświetleń treści obiektu:

13

Liczba wyświetleń treści obiektu w formacie PDF

13

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

http://bc.umcs.pl/publication/38638

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Obiekty

Podobne

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji